불순물2 반도체 8대공정 중 IMPLANT 공정이란? Ion Implantation 공정이란 반도체 8대 공정 중 Implant 공정에 대해 알아보겠습니다. Ion Implantation 공정이란 한 분자 또는 한 원자의 모든 전자의 수와 양성자의 수가 같지 않아 + 또는 -의 전기적 성질을 띠고 있는 입자를 이온이라 하는데, 이러한 이온을 목표물의 표면을 뚫고 들어갈 만큼의 에너지를 갖게 하여 원하는 불순물을 원하는 깊이로 원하는 양만큼 웨이퍼 전면에 균일하게 넣어주어 일정한 전도성을 가지게 하는 공정을 Ion Implantation(이온주입) 공정이라고 합니다. 이온주입 공정은 소자 제작 시 실리콘에 불순물을 주입하기 위한 공정으로, 붕소(B), 인(P), 비소(As)와 같은 불순물을 수십에서 수천 KeV의 에너지를 가지게 하여 실리콘 표면 안으로 수십.. 2023. 6. 17. P형 반도체, N형 반도체란 무엇일까? P형 반도체, N형 반도체 P형 반도체, N형 반도체라는 것은 반도체에 대해 공부를 하시는 분 들이거나 전자공학을 공부하신 분들이라면 많이 들어보셨을 것입니다. P형 반도체와 N형 반도체는 모두 불순물을 첨가하는 도핑을 거쳐서 만들어지게 되며 비고유 반도체라고 부르고 있습니다. 앞에서 간단히 말씀드린 것처럼 반도체는 불순물을 첨가하면서 반도체의 특성을 바꿀 수 있는 특징을 가지고 있습니다. 이렇게 반도체에 불순물을 첨가하는 과정을 우리는 도핑이라고 말하며, 첨가하는 불순물은 도펀트라는 이름으로 부르고 있습니다. 불순물인 도펀트를 실리콘(Si)에 도핑하여 P형 반도체나 N형 반도체를 만들게 되는 것이지요. 만약 반도체에 많은 양의 불순물을 첨가하게 될 경우 불순물을 첨가하지 않았을 때와 비교해서 전도도가 .. 2023. 5. 10. 이전 1 다음
