불순물 주입1 반도체 8대공정 중 IMPLANT 공정이란? Ion Implantation 공정이란 반도체 8대 공정 중 Implant 공정에 대해 알아보겠습니다. Ion Implantation 공정이란 한 분자 또는 한 원자의 모든 전자의 수와 양성자의 수가 같지 않아 + 또는 -의 전기적 성질을 띠고 있는 입자를 이온이라 하는데, 이러한 이온을 목표물의 표면을 뚫고 들어갈 만큼의 에너지를 갖게 하여 원하는 불순물을 원하는 깊이로 원하는 양만큼 웨이퍼 전면에 균일하게 넣어주어 일정한 전도성을 가지게 하는 공정을 Ion Implantation(이온주입) 공정이라고 합니다. 이온주입 공정은 소자 제작 시 실리콘에 불순물을 주입하기 위한 공정으로, 붕소(B), 인(P), 비소(As)와 같은 불순물을 수십에서 수천 KeV의 에너지를 가지게 하여 실리콘 표면 안으로 수십.. 2023. 6. 17. 이전 1 다음
