implant2 반도체 8대공정 요약 정리 반도체는 깨끗한 기판에 설계된 패턴을 그린 뒤 깎고, 쌓고를 반복하면서 회로를 형성합니다. 패턴을 그리고 깎고 쌓는 과정을 8대 공정에서 진행하는 것입니다. 반도체 8대 공정, 공정별 한 줄 정리 반도체 8대 공정을 공정별로 한줄 정리해 보겠습니다. 1. Photo : 설계된 회로 패턴을 Wafer에 그려 넣는 공정 2. Etch : 그려 넣은 회로에서 필요 없는 부분을 제거하는 공정 3. Diffusion : Wafer에 높은 온도로 불순물을 이동/확산시키는 공정 4. Ion implant : 소자가 원하는 특성을 가지도록 고전압으로 불순물을 주입하는 공정 5. CVD : 화학반응을 통해 Oxide나 Poly, Nitride를 증착시키는 공정 6. Metal : 화학반응을 통해 W이나 Cu 등을 증착시.. 2023. 7. 2. 반도체 8대공정 중 IMPLANT 공정이란? Ion Implantation 공정이란 반도체 8대 공정 중 Implant 공정에 대해 알아보겠습니다. Ion Implantation 공정이란 한 분자 또는 한 원자의 모든 전자의 수와 양성자의 수가 같지 않아 + 또는 -의 전기적 성질을 띠고 있는 입자를 이온이라 하는데, 이러한 이온을 목표물의 표면을 뚫고 들어갈 만큼의 에너지를 갖게 하여 원하는 불순물을 원하는 깊이로 원하는 양만큼 웨이퍼 전면에 균일하게 넣어주어 일정한 전도성을 가지게 하는 공정을 Ion Implantation(이온주입) 공정이라고 합니다. 이온주입 공정은 소자 제작 시 실리콘에 불순물을 주입하기 위한 공정으로, 붕소(B), 인(P), 비소(As)와 같은 불순물을 수십에서 수천 KeV의 에너지를 가지게 하여 실리콘 표면 안으로 수십.. 2023. 6. 17. 이전 1 다음
