전체 글37 반도체 8대공정 중 Diffusion 공정이란? Diffusion 이란? 반도체 8대 공정 중 Diffusion, 즉 확산이란 어떤 입자의 농도 차로 인하여 그 입자가 퍼지는 것을 말합니다. 예를 들면 그릇에 담겨있는 물에 잉크 방울을 떨어뜨린 경우를 생각할 수 있는데, 일단 잉크가 물 위에 떨어지면 잉크의 농도가 진한 데서 옅은 데로 번져 가는 것을 경험하였을 것입니다. 시간이 지남에 따라 잉크는 점점 퍼지게 되어 어느덧 그릇에 담겨 있는 물 전체가 옅은 잉크색을 띠게 되는 것이 확산현상입니다. 이는 방안에서 담배를 피우는 경우 멀리 떨어져 있는 사람에게도 담배 연기가 퍼지게 되는데 이런 것들이 확산의 예라 할 수 있습니다. 반도체 공정에서의 확산도 위의 예와 같이 물질에 어떤 입자를 주입하여 퍼지게 하는 것입니다. 확산공정에서는 기판인 실리콘에다 .. 2023. 6. 19. 반도체 8대공정 중 Dry Etch 공정이란? 반도체 8대공정 중 Dry Etch 공정이란? 반도체 8대 공정 중 Dry ETCH공정에 대해 알아보겠습니다. 일반적으로 반도체 제조공정에서 사용되는 Dry Etch 공정은 반응기 내에 반응 기체를 주입하고 고주파 전력을 가하여 발생한 Plasma를 이용하여 Wafer 위에 형성시킨 Photo Resist(PR)를 Mask로 하여 실제적인 형상으로 Patterning 하는 (회로를 만들기 위해 깎아내는) 기술을 말합니다. 약 10um 이상의 Design Rule을 갖는 초기 반도체 소자에서는 Wet ETCH공정이 대부분이었으며, 이때는 용액 특성상 등방성 Etch 기술이 사용되었습니다. 그러나 반도체 소자의 집적도 향상과 함께 정교한 Patterning 기술이 필요하게 되었고, 고집적도회도에서는 대부분 .. 2023. 6. 18. 반도체 8대공정 중 IMPLANT 공정이란? Ion Implantation 공정이란 반도체 8대 공정 중 Implant 공정에 대해 알아보겠습니다. Ion Implantation 공정이란 한 분자 또는 한 원자의 모든 전자의 수와 양성자의 수가 같지 않아 + 또는 -의 전기적 성질을 띠고 있는 입자를 이온이라 하는데, 이러한 이온을 목표물의 표면을 뚫고 들어갈 만큼의 에너지를 갖게 하여 원하는 불순물을 원하는 깊이로 원하는 양만큼 웨이퍼 전면에 균일하게 넣어주어 일정한 전도성을 가지게 하는 공정을 Ion Implantation(이온주입) 공정이라고 합니다. 이온주입 공정은 소자 제작 시 실리콘에 불순물을 주입하기 위한 공정으로, 붕소(B), 인(P), 비소(As)와 같은 불순물을 수십에서 수천 KeV의 에너지를 가지게 하여 실리콘 표면 안으로 수십.. 2023. 6. 17. 반도체 8대공정 중 Metal 공정이란? METAL 이란? 반도체 8대 공정 중 METAL 공정에 대해 알아보겠습니다. METAL이란 물질은 전기를 잘 흘려주는 성질이 있기 때문에 전기를 잘 흘려주기 위한 장치에는 모두 METAL을 사용합니다. 가령 전선의 경우를 예를 들어보면 피복 안에 구리 선이 있고 구리라고 하는 금속이 전기를 흘려주는 역할을 하는 것처럼 반도체에서도 이러한 구리 선의 역할을 하는 것을 Metal Line이라고 하며 이를 Metal 공정에서 만들어 줍니다. Metal Line은 Chip 외부에서 흘러들어오는 전기적 신호를 chip 내부의 각 소자로 전달시켜주기도 하고, 반대로 chip 내부의 전기적 신호를 외부로 전달해 주는 전달자 역할을 합니다. Metal 공정의 재료 반도체용 금속 재료로 사용하기 위해서는 여러 가지 조.. 2023. 6. 2. 이전 1 2 3 4 5 6 7 8 ··· 10 다음
